鎂合金容易腐蝕可以分為優點與缺點之分，對于想要腐蝕的用戶來講，這種材料是最好的腐蝕材料，對于不想腐蝕材料的人來講，就是一個致命的缺點，究竟有什么方法可以防止鎂合金的腐蝕？

可以防止的鎂合金的腐蝕方法主要有四種，分別是：化學轉化處置、陽極氧化、金屬涂層、激光處置。

鎂合金腐蝕方法分類

化學轉化處置

鎂合金的化學轉化膜按溶液可分為：鉻酸鹽系、有機酸系、磷酸鹽系、KMnO4系、稀土元素系和錫酸鹽系等。

傳統的鉻酸鹽膜以Cr為骨架的構造很細密，含構造水的Cr則具有極好的自修正功用，耐蝕性很強。但Cr具有較大的毒性，廢水處置本錢較高，開發無鉻轉化處置勢在必行。鎂合金在KMnO4溶液中處置可得到無定型安排的化學轉化膜，耐蝕性與鉻酸鹽膜相當。堿性錫酸鹽的化學轉化處置可作為鎂合金化學鍍鎳的前處置，替代傳統的含Cr、F或CN等有害離子的技能。化學轉化膜多孔的構造在鍍前的活化中表現出極好的吸附性，并能改鍍鎳層的結合力與耐蝕性。

有機酸系處置所取得的轉化膜能同時具有腐蝕保護和光學、電子學等綜合功能，在化學轉化處置的新發展中占有很重要的位置。

化學轉化膜較薄、軟，防護才能弱，通常只用作裝修或防護層中間層。

陽極氧化

陽極氧化可得到比化學轉化非常好的耐磨損、耐腐蝕的涂料基底涂層，并兼有杰出的結合力、電絕緣性和耐熱沖擊等功能，是鎂合金常用的表面處置技能之一。

傳統鎂合金陽極氧化的電解液通常都含鉻、氟、磷等元素，不只污染環境，也危害人類健康。這些年研討開發的環保型技能所取得的氧化膜耐腐蝕等功能較經典技能Dow17和HAE有大程度的進步。優秀的耐蝕性來源于陽極氧化后Al、Si等元素在其表面均勻分布，使構成的氧化膜有極好的細密性和完整性。

通常以為氧化膜中存在的孔隙是影響鎂合金耐蝕功能的主要因素。研討發現經過向陽極氧化溶液中參加適當的硅-鋁溶膠成分，一定程度上能改進氧化膜層厚度、細密度，下降孔隙率。并且溶膠成分會使成膜速度呈現階段性疾速和緩慢增加，但基本上不影響膜層的X射線衍射相構造。

但陽極氧化膜的脆性較大、多孔，在雜亂工件上難以得到均勻的氧化膜層。

金屬涂層

鎂及鎂合金是最難鍍的金屬，其原因如下：

(1) 鎂合金表面極易形成的氧化鎂，不易清除干凈，嚴重影響鍍層結合力；

(2) 鎂的電化學活性太高，所有酸性鍍液都會造成鎂基體的迅速腐蝕，或與其它金屬離子的置換反應十分強烈， 置換后的鍍層結合十分松散；

(3) 第二相 (如稀土相、 γ相等) 具有不同的電化學特性，可能導致沉積不均勻；

(4) 鍍層標準電位遠高于鎂合金基體，任何一處通孔都會增大腐蝕電流，引起嚴重的電化學腐蝕，而鎂的電極電位很負，施鍍時造成針孔的析氫很難避免；

(5) 鎂合金鑄件的致密性都不是很高，表面存在雜質，可能成為鍍層孔隙的來源。

因此，一般采用化學轉化膜法先浸鋅或錳等，再鍍銅，然后再進行其它電鍍或化學鍍處理，以增加鍍層的結合力。鎂合金電鍍層有Zn、Ni、Cu-Ni-Cr 、Zn-Ni 等涂層，化學鍍層主要是 Ni-P、Ni-W-P等鍍層。

單一化學鍍鎳層有時不足以很好地保護鎂合金。 有研究通過將化學鍍 Ni 層與堿性電鍍 Zn-Ni 鍍層組合，約 35μm厚的鍍層經鈍化后可承受 800-1000h 的中性鹽霧腐蝕。也有人采用化學鍍鎳作為底層，再用直流電鍍鎳能得到微晶鎳鍍層，平均結晶顆粒大小為 40nm，因晶粒的細化而使鍍層孔隙率大大降低，結構更致密。

電鍍或化學鍍是同時獲得優越耐蝕性和電學、 電磁學和裝飾性能的表面處理方法。缺點是前處理中的 Cr、F 及鍍液對環境污染嚴重 ;鍍層中多數含有重金屬元素， 增加了回收的難度與成本。 由于鎂基體的特性，對結合力還需要改善。

激光處理

激光處理主要有激光表面熱處理和激光表面合金化兩種，激光表面熱處理又稱為激光退火， 實際上是一種表面快速凝固處理方式。而激光表面合金化是一種基于激光表面熱處理的新技術。 激光表面合金化能獲得不同硬度的合金層， 具有冶金結合的界面。 利用激光輻照源的熔覆作用在高純鎂合金上還可制得單層和多層合金化層。

采用寬帶激光在鎂合金表面制備 Cu-Zr-Al 合金熔覆涂層時，由于涂層中形成的多種金屬間化合物的增強作用， 使合金涂層具有高的硬度、彈性模量、耐磨性和耐蝕性。而由于稀土元素 Nd的存在，在經過激光快速熔凝處理之后得到的激光多層涂敷，晶粒得到明顯細化，能提高熔覆層的致密性和完整性。激光處理能處理復雜幾何形狀的表面， 但鎂合金在激光處理時易發生氧化、蒸發和產生汽化、氣孔以及熱應力等問題，設計正確的處理工藝至關重要。

以上就是四種防止鎂合金腐蝕的方法，希望以上所講的內容對大家有所幫助。